文献综述
摘要 氮化钛（TiN）薄膜是一种性能优良的保护涂层，其制备方法亦是多种多样。由于存在吸附效应，使得氮化钛薄膜中氮的含量会随着钛蒸发沉积速率的增加而下降。由于在沉积的过程中出现了气相形核和生长的薄膜生长机制，导致在一定的沉积时间内，单层膜结构会变成双层，从而影响TiN薄膜的性能与应用。
关键词 TiN薄膜； 磁过滤真空阴极电弧沉积法；成核机理
1.引言
氮化钛（TiN）薄膜是一种典型的NaCl结构，属于面心立方结构晶体。TiN属于非化学计量数化合物，N的含量在一定的范围内变化时并不会影响TiN的结构。其分子结构包括离子键、共价键和金属键，使得薄膜展现出独特的光学性能，同时它又具有高熔点、高硬度和良好热传导率的特性，现如今已经成功用于各种刀具和模具耐磨保护涂层和装饰涂层。
2.薄膜制备技术
2.1 磁控溅射
磁控溅射技术是上个世纪70年代开始兴起的一种薄膜沉积技术，与传统的二级溅射相比，磁控溅射所需要的工作压力比较低，沉积速率较高，且得到的薄膜质量也要好。其主要工作原理如图2-1所示。通过增加磁场作用，Ar原子发生离化成Ar离子，Ar离子加速轰击靶材，使得靶材发生溅射[1]。
图2-1
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